壓電部門專注于精密定位執(zhí)行器的研發(fā)、生產制造、銷售；是國內壓電領域極少數擁有從壓電陶瓷材料到壓電陶瓷電機再到納米精度壓電運動臺全產品鏈研發(fā)與批量生產能力的高科技企業(yè)。
隱冠打造精密運動臺、特種電機、壓電產品和關鍵零部件四大產品線，配備先進的精密運動控制測試平臺和一批專用工具，具備良好的生產測試條件。
隱冠半導體成立于2019年，是一家專注半導體制造、量檢測和先進封裝裝備精密運動平臺及核心部件研發(fā)與生產的高科技創(chuàng)新型企業(yè)。
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公司以客戶需求為導向、快速反應為特點。專業(yè)化定制、全生命周期服務是公司秉承的發(fā)展理念。
隱冠讓運動更精密，讓精密更穩(wěn)定。
點膠設備是運用點膠技術，通過機械結構設計、運動算法、影像視覺等技術，實現對膠粘劑高精度、高效穩(wěn)定控制性輸出的設備。從智能點膠設備產業(yè)鏈來看，該產業(yè)鏈上游是電子元器件、機械零部件、系統(tǒng)集成；產業(yè)鏈中游是流體控制設備生產制造，主要包括點膠機、涂覆機等；產業(yè)鏈下游廣泛應用于消費電子、新能源汽車、光伏、半導體等領域。
復雜時變的大氣環(huán)境易對精密光機系統(tǒng)探測光、發(fā)射激光的空間傳輸產生高頻的隨機擾動，導致傳感圖像清晰度下降及激光聚焦形狀潰散，極大地降低了作用效果。利用波前校正器可對空間光束的波前畸變進行自適應動態(tài)補償，從而顯著提高圖像探測精度和激光傳輸性能。
激光器是利用受激輻射方法產生可見光或不可見光的一種器件，構造復雜，技術壁壘較高，是大量光學材料和元器件組成的綜合系統(tǒng)，居于整個激光產業(yè)鏈的核心中樞位置，主要由光學系統(tǒng)、電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和機械機構四個部分組成，其中光學系統(tǒng)主要由泵浦源（激勵源）、增益介質（工作物質）和諧振腔等光學器件材料組成。
隱冠可提供重載型壓電XZ減振臺，負載量可選范圍30kg~1000kg。減振系統(tǒng)基于隱冠自研壓電微步電機技術，具備高剛性、高響應時間、高調整精度等特點，可以實現XZ向運動定位+減振雙重功能，適用主動減振帶寬1~100Hz。
在半導體制造業(yè)中，薄膜的厚度對器件的性能和質量有重要影響。薄膜的厚度決定了許多重要的物理和化學性質，對其折射、反射和透射的光學性質有直接影響，可以導致顯著的量子尺寸效應，從而改變材料的電子、光學和磁性等。準確測量和控制薄膜厚度對于優(yōu)化器件性能、提高生產效率、確保器件可靠性等都具有重要的作用。
套刻誤差的定義是兩層圖形結構中心之間的平面距離。隨著集成電路的層數不斷增多，多重圖形和多重曝光的光刻工藝被廣泛應用，不同步驟形成的電路圖形之間的套刻精度愈發(fā)重要。套刻誤差過大形成的錯位，會導致整個電路失效報廢。套刻誤差測量設備，用于確保不同層級電路圖形，和同一層電路圖形的正確對齊和放置。套刻誤差測量通常在每道光刻步驟后進行。
