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        上海隱冠半導體技術股份有限公司

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        新聞詳情頁
        公司動態(tài)
        新品發(fā)布 | 全新模塊化氣浮平臺系列
        時間:2026.01.15 字號
        性能全面對標國際一線品牌,創(chuàng)新模塊化設計引領精密運動控制新標桿,完美適配步進與掃描雙重工況需求。

        在微納制造領域,每一個納米的精度提升都意味著良率的飛躍。今天,我們自豪地推出了這一革新性的產品系列——不僅是一個運動臺,更是一個基于客戶需求的靈活解決方案。

        在追求極致精密的道路上,傳統(tǒng)單一配置產品已難以滿足多元化的半導體檢測場景。我們發(fā)布的這款全新模塊化氣浮平臺,性能全面對標國際一線品牌,通過創(chuàng)新的宏動與微動組合,實現(xiàn)了六自由度的高精度控制。憑借氣浮導向減少摩擦垂向磁浮重力補償技術,該系統(tǒng)在步進與掃描兩種工況模式下均展現(xiàn)出優(yōu)越性能——既能大幅縮短產線節(jié)拍,又能確保掃描成像質量,真正做到了一套系統(tǒng),解決多重痛點。

        核心突破:解決半導體行業(yè)痛點

        我們不只提供參數(shù),更解決難題。通過氣浮導向減少摩擦,采用磁浮重力補償降低垂向發(fā)熱,我們讓運動更加平穩(wěn),精度更加持久。高配版本的雙向重復精度甚至可達±50nm,這是對精度的極致追求。


        技術深度解析:痛點終結者
        precision_manufacturing

        微納制造的良率救星

        定位精度±200nm確保關鍵尺寸準確性,解決芯片與光學檢測良率低的痛點。

        ? 解決:芯片/光學檢測良率低
        speed

        產線節(jié)拍的加速器

        整定時間30mm 300ms@80nm,極快整定大幅縮短定位等待時間,提升設備吞吐量。

        ? 解決:產線節(jié)拍慢 (步進模式)
        linear_scale

        成像質量的守護者

        速度均勻性±0.1%,超高速度穩(wěn)定性保證線掃/面掃數(shù)據(jù)一致性,杜絕模糊失真。

        ? 解決:成像模糊/失真 (掃描模式)
        ac_unit

        長時間測量的定海神針

        靜態(tài)穩(wěn)定性±10nm,卓越熱穩(wěn)定性和結構剛度,保證長時間測量結果一致性。

        ? 解決:長時間測量漂移

        靈活配置,按需構建

        我們理解每個定制型號的設備都是獨一無二的。因此,我們提供了清晰的模塊化選型路徑,從基礎到進階,滿足不同階段的客戶需求。

        模塊化氣浮平臺產品圖
        BASE

        標準宏動 XY 臺

        基礎核心配置。350mm行程,800mm/s速度。氣浮導向龍門結構搭配減振器,實現(xiàn)高速高加速及±200nm定位精度。

        OPTION 1

        微動擴展模塊

        選配 Z、T、ZT 或 Z3T 模塊。實現(xiàn) Z, RX, RY, RZ 多自由度微調,磁浮音圈電機直驅實現(xiàn)高帶寬響應。

        OPTION 2

        隔振系統(tǒng)

        可選配主動/被動減振器,有效隔絕環(huán)境振動干擾,確保極致測量穩(wěn)定性,適用于超精密檢測。

        handshake 深度定制,只為極致體驗

        電機/傳感器精準選型 針對不同工況需求進行電機與傳感器選型,以實現(xiàn)更高性能。
        行程與結構按需調整 350mm行程可調,支持大尺寸工件全幅掃描;框架尺寸材質按空間等需求定制。
        材料工藝按需升級 關鍵零件的材料可選配碳化硅(SiC),顯著降低熱膨脹,滿足更高精度。
        無縫集成半導體生態(tài) 多種標準化大理石接口,適配不同電氣柜與自動化產線無縫集成。

         隱冠半導體精密運動臺產品矩陣

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